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真空电镀中溅射镀膜优点浅析

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来源: 发布日期:2021-04-26
       以溅射的方法进行真空镀膜,由于其镀膜方式的不同,同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的,虽然肉眼无法看出来,但确实拥有一定的优势。 膜厚稳定性好,由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系,电流越高,溅射效率越大,相同时间内,所镀膜层的厚度相对就大了,因为只要把电流数值控制好,需要镀多厚,或者多薄的膜层都可以了
 
       膜层结合力强,在真空电镀加工过程中,有部分电子撞击到基材表面,激活表面原子,并且产生清洁的作用,而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级,带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时,有更多的能量可以传递到基材上,产生更多的热能,使被电子激活的原子加速运动,与部分镀材原子更早互相溶合到一起,其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜,加强了膜层与基材的结合力。
    镀材范围广,由于溅射镀膜是通过氩离子的高速轰击使镀材溅射出来的,当然这个厚度是在可允许的范围内,而且控制好电流,无论重复镀多少次,膜层厚度都不会变化,膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。不像五金电镀加工由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材,而溅射镀膜固体的物质都可以成为镀材。
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